아모퍼스 카본막의 후처리 방법, 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 및, 제어 프로그램이 기억된 컴퓨터 판독가능한 기억 매체

Aftertreatment method for amorphous carbon film, manufacturing method for semiconductor device using the same, and computer-readable recording medium having control program thereon

Abstract

본 발명은, 기판 상에 성막된 후에, 가열을 수반하는 처리가 행해진 아모퍼스 카본막에 더 행해지는 후처리 방법으로서, 가열을 수반하는 처리의 직후에, 아모퍼스 카본막의 산화를 방지하는 처리가 행해지는 것을 특징으로 하는 아모퍼스 카본막의 후처리 방법이다. 아모퍼스, 카본막, 후처리, 산화

Claims

Description

Topics

Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

Patent Citations (2)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2000345347-ADecember 12, 2000Koito Mfg Co Ltd, 株式会社小糸製作所Formation of protective film for automotive plastic parts
    KR-20030007494-AJanuary 23, 2003샤프 가부시키가이샤A method to enhance the adhesion of silicon nitride to low-k fluorinated amorphous carbon using a silicon carbide adhesion promoter layer

NO-Patent Citations (0)

    Title

Cited By (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle